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資訊動態(tài)
鍍錫沉積速度緩慢的原因如下：
光亮鍍錫溶液的主鹽是硫酸亞錫，主要是為其提供錫離子元素，其含量對鍍層和鍍錫中允許的電流密度有很大的影響，在允許的范圍內提高亞錫離子濃度，可以促使陰極電流密度的提高，這有利于提高鍍層的沉積速度，相應地生產效率也有所提升。但是，如果超過工藝規(guī)格的要求，在亞錫離子濃度過高或過低時，會對電鍍層質量產生以下不良影響：
（1）含量過高時出現(xiàn)的主要癥狀：過高時，分散能力明顯降低，鍍層表面結晶粗糙，色澤暗淡；明亮區(qū)域的范圍會變窄，導致質量下降。
（2）含量過低時出現(xiàn)的主要癥狀：過低時，允許的電流密度范圍明顯縮小，鍍層沉積速度很慢，相應地生產效率就會下降，鍍層極其容易燒焦。推測該故障是因為電流密度過大，但又考慮到鍍錫層表面并不粗糙，并且在電流密度變小之后，依然沒有發(fā)生變化，因此進行檢測分析。硫酸亞錫含量低于30g/L，檢測表明陽極鈍化，原來溶液中錫含量的下降是陽極鈍化引起的。進一步分析表明，陽極鈍化原是該陽極從異質錫自熔鑄造而成。因此，陽極錫頭回爐時應使用專用鍋，不能與其他金屬溶解鍋混合，應要仔細檢查，以免與錫、鎘、鉛、鋅等其他金屬混合。
以上就是鍍錫沉積速度緩慢原因的介紹，更多信息可通過官網查看，感謝閱讀。
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